產(chǎn)品中心
Product Center
熱門(mén)搜索：
美國(guó)EDAX能譜儀
EP6美國(guó) Cascade Microtech EP6探針臺(tái)
TEM氮化硅薄膜窗口
NTEGRAPrima俄羅斯產(chǎn)全功能掃描探針原子力顯微鏡
主動(dòng)隔振臺(tái)ARISTT
Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀
石英/硅/聚合物模板高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）
iNano高精度臺(tái)式納米壓痕儀
PLD/Laser-MBE脈沖激光沉積/分子束外延聯(lián)用系統(tǒng)
納米團(tuán)簇束流沉積系統(tǒng)
P170全自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
P7晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
Profilm 3D經(jīng)濟(jì)三維光學(xué)輪廓儀 可測(cè)樣
Lumina光學(xué)表面缺陷分析儀
Solver P47俄羅斯產(chǎn)高性?xún)r(jià)比掃描探針顯微鏡原子力
ET4000日本Kosaka輪廓儀（臺(tái)階儀）
當(dāng)前位置：首頁(yè)
產(chǎn)品中心晶圓檢測(cè)
自由曲面三維面型檢測(cè)儀 自由曲面光學(xué)元件應(yīng)用于智能車(chē)載顯示、AR 顯示、手機(jī)鏡頭、激光顯示、照明、 光刻等前沿領(lǐng)域，自由曲面三維面型檢測(cè)儀，能夠非接觸測(cè)量光學(xué)鏡面元件的三維面型數(shù)據(jù)，開(kāi)展三維輪廓分析和三維誤差比對(duì)，并生成包含多項(xiàng)面型誤差指標(biāo)的測(cè)量報(bào)告。 從產(chǎn)品研發(fā)到生產(chǎn)過(guò)程及質(zhì)量控制，這款獨(dú)立的系統(tǒng)可用于開(kāi)展光學(xué)設(shè)計(jì)、加工與檢測(cè)的前端研發(fā)設(shè)計(jì)過(guò)程、智能生產(chǎn)過(guò)程和后端質(zhì)量檢測(cè)過(guò)程。
更新時(shí)間：2024-09-24
產(chǎn)品型號(hào)：
瀏覽量：973
具備三維翹曲（平整度）及薄膜應(yīng)力的檢測(cè)功能，適用于半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)、半導(dǎo)體制程工藝開(kāi)發(fā)、玻璃及陶瓷晶圓生產(chǎn)
更新時(shí)間：2024-09-24產(chǎn)品型號(hào)：瀏覽量：957
Strain Viewer 內(nèi)應(yīng)力檢測(cè)儀 具備化合物晶圓內(nèi)應(yīng)力分布測(cè)量及缺陷篩查等檢測(cè)功能
更新時(shí)間：2024-09-04產(chǎn)品型號(hào)：瀏覽量：1056